杭州星原驰半导体有限公司（以下简称“星原驰” ）是一家致力于半导体领域精密真空镀膜设备（化学气相沉积（CVD）,原子层沉积（ALD），外延生长（EPI）和物理气相沉积（PVD））研发、生产和销售的高科技企业。公司成立于2021年，总部位于中国杭州，并在上海和韩国水原设有研发中心。

公司产品广泛应用于12 英寸 DRAM内存芯片、Logic逻辑芯片和VNAND闪存芯片等关键半导体器件的制造。主要产品为半导体薄膜沉积设备包括 CVD 设备、ALD 设备及 PVD 设备三个系列。

公司现在的低压化学气相沉积多晶硅（LPCVD Poly-Si）设备是半导体制造中一种重要的薄膜沉积技术，具有良好的均匀性、保形性、可控性，因此，LPCVD设备广泛应用于晶体管栅极、互连线、存储电容器电极领域。